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建立了 高功率 激光辐 照下光 学表面 存在划 痕且 残存

郭文华 陶冶 张蓉竹

郭文华, 陶冶, 张蓉竹. 建立了 高功率 激光辐 照下光 学表面 存在划 痕且 残存[J]. 机械工程学报, 2020, 32(3): 031001. doi: 10.11884/HPLPB202032.190303
引用本文: 郭文华, 陶冶, 张蓉竹. 建立了 高功率 激光辐 照下光 学表面 存在划 痕且 残存[J]. 机械工程学报, 2020, 32(3): 031001. doi: 10.11884/HPLPB202032.190303
Wenhua Guo, Ye Tao, Rongzhu Zhang. Effect of residual polishing particles on thermal damage characteristics of materials in surface scratches[J]. JOURNAL OF MECHANICAL ENGINEERING, 2020, 32(3): 031001. doi: 10.11884/HPLPB202032.190303
Citation: Wenhua Guo, Ye Tao, Rongzhu Zhang. Effect of residual polishing particles on thermal damage characteristics of materials in surface scratches[J]. JOURNAL OF MECHANICAL ENGINEERING, 2020, 32(3): 031001. doi: 10.11884/HPLPB202032.190303

建立了 高功率 激光辐 照下光 学表面 存在划 痕且 残存

doi: 10.11884/HPLPB202032.190303
详细信息
    作者简介:

    郭文华(1994—),男,硕士研究生,主要从事激光与材料相互作用方面的研究工作;domissi@163.com

    通讯作者:

    陶 冶(1984—),男,四川大学机械工程学院 副教授,主要从事精密测量与传感方面的研究工作; yetao@scu.edu.cn

  • 中图分类号: TN24

Effect of residual polishing particles on thermal damage characteristics of materials in surface scratches

  • 摘要: 建立了高功率激光辐照下光学表面存在划痕且残存抛光颗粒时的热损伤分析模型,对这种复杂缺陷条件下的光学材料热损伤性能进行了研究。利用有限差分法计算了不同尺度抛光颗粒处于划痕中不同位置时光学材料表面的光场调制和温度场的分布。根据表面温度分布,得到了对应条件下光学材料的热损伤阈值变化规律。结果表明:除了抛光颗粒半径对材料损伤阈值存在影响外,当抛光颗粒位于划痕宽度方向不同位置时,材料的热损伤阈值也会有比较明显的变化;当位于划痕中心时,抛光颗粒对材料光场调制最强,更容易造成材料的熔化损伤。

     

  • 图  同时存在划痕与抛光颗粒分析模型示意图

    Figure  1.  Schematic diagram of the analysis model of scratches and polished particle

    图  抛光颗粒在划痕宽度方向上不同位置对材料表面光场分布的影响

    Figure  2.  Effect of polishing particles on the light field distribution of the material surface at different positions in the width direction of the scratch

    图  划痕宽度不同位置处抛光颗粒对光场调制(a)及热损伤阈值(b)的影响

    Figure  3.  Effect of polishing particles on the light field modulation (a) and thermal damage threshold (b) at different locations of the scratch width

    图  划痕长度不同位置处抛光颗粒对光场调制(a)及热损伤阈值(b)的影响

    Figure  4.  Effect of polishing particles on the light field modulation (a) and thermal damage threshold (b) at different locations of the scratch length

    图  不同半径的抛光颗粒对光场调制(a)及热损伤阈值(b)的影响

    Figure  5.  Effect of polishing particles with different radii on light field modulation (a) and thermal damage threshold (b)

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出版历程
  • 收稿日期:  2019-08-16
  • 修回日期:  2019-11-04
  • 发布日期:  2020-03-17

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